Архив за Февраль, 2008

Intel работает над преодолением ограничений современных техпроцессов

Компания Intel инвестировала средства в компанию Tela, занятую разработкой технологий, способных облегчить перевод производства микросхем на нормы 45-нм техпроцесса. В частности, специалисты Tela работают над обходом ограничений, имеющихся в традиционной литографии.

Литография является основным техпроцессом в производстве интегральных схем (шС). Постоянная миниатюризация элементов шС требует неуклонного сокращения длины волны излучения, использующегося для печати микросхем. В большинстве современных микросхем размеры элементов составляют 65 нм, но все большее число производителей переходят на 45-нанометровый процесс.
Далее »