Intel работает над преодолением ограничений современных техпроцессов
Компания Intel инвестировала средства в компанию Tela, занятую разработкой технологий, способных облегчить перевод производства микросхем на нормы 45-нм техпроцесса. В частности, специалисты Tela работают над обходом ограничений, имеющихся в традиционной литографии.
Литография является основным техпроцессом в производстве интегральных схем (ИС). Постоянная миниатюризация элементов ИС требует неуклонного сокращения длины волны излучения, использующегося для печати микросхем. В большинстве современных микросхем размеры элементов составляют 65 нм, но все большее число производителей переходят на 45-нанометровый процесс.
Далее »
Коммент.(0)
В перспективе это ползволит создать очень производительные и энергетически экономные вычислительные системы. Пожелаем